主要规格及技术指标

基板尺寸最大到150 x 150毫米
曝光精度：1 μm结构
非接触式曝光
光源可切换，为405 nm和375 nm
基于SLM光引擎
多种数据输入格式
校准精度为500 nm
背面对齐
实时自动对焦
自动标记和序列化

主要功能及特色

（1）采用375 nm和405 nm激光光源，适用于大部分光刻胶产品。
（2）该系统通过光聚焦或气聚焦自动对焦到样品表面，可保证曝光分辨率。通过自动对焦可以识别样品尺寸并进行图案的倾斜校正。
（3）该系统参数控制灵活，可以通过设置激光曝光能量（Dose）和聚焦度（Defocus）序列来快速确定最佳曝光参数。
（4）该系统可靠性高，拥有高直写速度（≥10 cm²/min），高图形分辨率（≤1 μm）、高套刻精度（≤500 nm）的特点。
（5）该系统支持GDSⅡ、CIF、DXF、Geber (RS-274X) 等图形格式。

主要附件及配置

375和405激光写头；
冷水机；
电脑；
空压机