主要规格及技术指标

1.离子枪数量：3把
2.离子枪电压：1-10kV
3.离子枪电流：0.5-4.5mA
4.离子束直径（半高宽）：0.8mm —2.5mm
5.最大离子束切割速率：300µm/h(Si,10kV)
6.抛光样品台：可放入样品最大直径38mm、高度12mm，加工区域最大25mm
7.切割样品台：可放入样品最大为50 mm × 50 mm ×10 mm，切割面积大小≥4mm×1mm

主要功能及特色

利用离子束对样品表面进行处理，可获得高质量的无应力样品表面和截面，适用于扫描电子显微镜（SEM）的微区分析如能谱分析（EDS）、电子背散射分析（EBSD），以及俄歇分析（AES）等分析测试的样品制备。

主要附件及配置

无